特許
J-GLOBAL ID：200903085492779360
エンボスホイルから基材上に装飾を転写するための方法および装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
柳田 征史 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平2-402324
公開番号（公開出願番号）：特開平6-262751
出願日： 1990年12月14日
公開日（公表日）： 1994年09月20日
要約：
【要約】【目的】 装飾用エンボスホイルの基材への転写において、装飾と基材を正確に関連させる。【構成】 エンボスホイルから装飾を、カードのような表面が平らな基材上に転写するための方法および装置において、基材64がエンボスホイル74と共にエンボス加工区域66を通って移動し、そこで装飾がエンボスホイル74から基材64上に転写される。エンボスホイル74はそれぞれ関連するマークを備えた一連の装飾を有し、一定速度で連続的に移動し、それぞれのマークを検出するためのセンサー78を通過する。センサー78は、前進送り手段16を制御し、基材64をエンボス加工区域66に段階的に送り、基材64の移動をホイル74の移動に適合させ、基材64およびその基材に施すべき装飾の正しい位置的関連性を確保する様に調整する。
請求項（抜粋）：
細長いエンボスホイル細片から、そのエンボスホイル細片の縦方向に対して平行な方向で縦方向の長さが限定された装飾を、表面が平らな基材上に転写するための方法において、そのエンボスホイルが、関連するマークと共に複数の装飾を連続的に備え、その基材がそのエンボスホイルと共にエンボス加工区域を通って移動し、そのエンボス加工区域内で装飾がエンボスホイルから基材上に転写され、エンボスホイルはそれぞれのマークを検出するためのセンサーを通過し、エンボス加工区域に対する基材の前進送り運動がそのセンサーにより制御され、エンボスホイルは少なくとも本質的に一定な速度で移動し、基材は、そのエンボスホイルの前進送り移動に合わせて限定された様式で段階的に移動することを特徴とする方法。
IPC (5件)：
B41F 16/00
, B41M 3/12
, B42D 15/10 501
, B42D 15/10
, B44C 1/17
