特許

J-GLOBAL ID：200903085516331489

被膜安定化リポソーム及びその製造方法

発明者： 釈 政雄 ,  大倉 さゆり ,  鷺谷 広道 ,  黒田 秀夫 ,  中林 宣男
出願人/特許権者： ポーラ化成工業株式会社 ,  中林 宣男
代理人 (1件)： 光石 俊郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-334200
公開番号（公開出願番号）：特開平6-178930
出願日： 1992年12月15日
公開日（公表日）： 1994年06月28日
要約：

【要約】【目的】 生理的条件下におけるリポソームの徐放性を有すると共に機械的強度が向上を図ることができる被膜安定化リポソームを提供する。【構成】 リポソーム膜の表面が2-メタクリロイルオキシエチルホスホリルコリン(MPC)の単独重合体またはMPCとモノマーとの共重合体によって被覆されてなる。

請求項（抜粋）：

リポソーム膜の表面が2-メタクリロイルオキシエチルホスホリルコリン(MPC)の単独重合体またはMPCとモノマーとの共重合体によって被覆されてなることを特徴とする被膜安定化リポソーム。

IPC (3件)：

B01J 13/02 ,  A61K 9/127 ,  A61K 47/32

FI (2件)：

B01J 13/02 Z ,  B01J 13/02 L