特許

J-GLOBAL ID：200903085531424779

放射線照射装置及び方法

発明者： 依田 潔
出願人/特許権者： 三菱電機株式会社
代理人 (1件)： 青山 葆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-254185
公開番号（公開出願番号）：特開2001-070466
出願日： 1999年09月08日
公開日（公表日）： 2001年03月21日
要約：

【要約】【課題】 強度変調をもつ放射線ビームを実現するためマルチリーフコリメータで形成する開口部を様々な形状で複数設定するにあたり、従来技術よりも著しく短い時間で計算する方法と装置を提供する。さらに放射線治療時間を最少とし、そして放射リークを減少させる装置を提供する。【解決手段】 所与の2次元放射線強度分布を、1つ又は複数の2次元放射線分布に分解する。分解により生成される略全ての2次元放射線分布においては、遮断対象セルと照射対象セルのみが存在し、しかも照射対象セルへの照射強度は一様である。換言すれば、この条件を満たすように分解を行う。さらに、生成された個々の2次元放射線分布において、(サブ)セグメントに分割する。分割により生成される個々の(サブ)セグメントは、マルチリーフコリメータ4の一度の配置により、実現し得る。

請求項（抜粋）：

所与の2次元放射線強度分布マトリクスの各要素Aijに対して、Aijの最小値Aminが近似的な0でない場合にこの最小値Aminで照射野全体を照射する第1のステップと、Bij=Aij-AminとなるマトリクスBijを設定し、さらに、Bijの最大値(Bijmax)の相対強度を所定の整数値又はその近似値とし、Bijmaxと各Bijとの比率から、各Bijの備える相対強度Cijを求める第2のステップと、αが0.5又は0.5の近似値であって、C*ij=Cij-αとなるマトリクスC*ijを設定し、0又は0の近似値以上の要素に対して相対強度1又は1の近似値で照射する2次元放射線分布を得て、照射後の残差マトリックスを改めてCijとする第3のステップと、からなり、照射後の残差マトリックスの各要素において最大値が0.5又はその近似値より小さくなるまで第3のステップを繰り返す、放射線照射装置における放射線を照射する方法。

FI (2件)：

A61N 5/10 J ,  A61N 5/10 H

Fターム (7件)：

4C082AA01 ,  4C082AC02 ,  4C082AC04 ,  4C082AE03 ,  4C082AG22 ,  4C082AG24 ,  4C082AN02