特許

J-GLOBAL ID：200903085539193318

化学増幅型レジストおよびこれを用いた露光用マスクの製造方法

発明者： 杉原 真児 ,  池田 隆洋 ,  伊藤 正光
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 木村 高久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-234883
公開番号（公開出願番号）：特開平5-072737
出願日： 1991年09月13日
公開日（公表日）： 1993年03月26日
要約：

【要約】【目的】 本発明の第1は、高感度のレジストを提供することを目的とする。 本発明の第2は、高精度のエネルギー吸収体パターンを形成することを目的とする。【構成】 本発明では、化学増幅型のレジストに中性塩を添加したものをレジストとして用いるようにしている。

請求項（抜粋）：

樹脂と、架橋剤と、酸発生剤と、中性塩とを含有したことを特徴とする化学増幅型レジスト。

IPC (6件)：

G03F 7/038 505 ,  G03F 1/16 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/26 ,  H01L 21/027