特許
J-GLOBAL ID:200903085546655025
半導体ウェーハおよびその保管方法
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
桑井 清一 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-359480
公開番号(公開出願番号):特開平6-204315
出願日: 1992年12月25日
公開日(公表日): 1994年07月22日
要約:
【要約】【目的】 梱包、搬送等取扱時の半導体ウェーハの破損、欠陥発生、および、半導体ウェーハの表面の汚染を防止する。【構成】 半導体ウェーハ11をスピナ13の台13A上に載置し、この半導体ウェーハ11表面および裏面に高粘性体を滴下し、スピナ13を回転させる。半導体ウェーハ11表面に均一の厚さに高粘性体を塗布、被覆する。塗布後、ベーキングを行って溶剤を蒸発させることにより、半導体ウェーハ11の全表面を高粘性体の被覆層12により覆う。搬送時は各葉の間にシート22を挟んで重ね合わせる。
請求項(抜粋):
鏡面研磨後の半導体ウェーハの全表面を高粘性体により被覆することを特徴とする半導体ウェーハの保管方法。
引用特許:
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