X線マスクの構造及びX線露光方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：加藤朝道
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-227233
公開番号（公開出願番号）：特開平9-055355
出願日： 1995年08月10日
公開日（公表日）： 1997年02月25日
要約：

【要約】【課題】X線露光時にX線マスクのメンブレンの変形を抑制する。【解決手段】X線マスクのメンブレン近傍に圧力調整用の気孔を設け、ギャップ変更時には圧力を制御し、ステップ移動時には気流を作ることによってX線露光時のメンブレンの変形を抑制する。

請求項（抜粋）：

メンブレン支持体、メンブレン、及びX線吸収体によるパターンから構成されるX線マスクにおいて、前記メンブレン近傍に気体の流れを制御するための気孔を備えたことを特徴とするX線マスクの構造。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G03F 1/16 , G03F 7/20 503

FI (4件)：

H01L 21/30 531 M , G03F 1/16 A , G03F 7/20 503 , H01L 21/30 531 E

引用特許：

審査官引用 (3件)

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