特許

J-GLOBAL ID：200903085578360221

アルコキシN-ヒドロキシアルキルアルカンアミドからなるレジスト除去剤、レジスト除去用組成物、これらの製造方法及びこれらを用いたレジスト除去方法

発明者： 朴 東鎭 ,  黄 震虎 ,  吉 俊仍 ,  朴 濟應 ,  全 相文
出願人/特許権者： 三星電子株式会社
代理人 (1件)： 服部 雅紀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-210983
公開番号（公開出願番号）：特開2000-199972
出願日： 1999年07月26日
公開日（公表日）： 2000年07月18日
要約：

【要約】【課題】 レジスト除去力に優れ、下地膜を損傷させないレジスト除去剤とレジスト除去用組成物、これらの製造方法及びこれを用いたレジスト除去方法を提供する。【解決手段】 レジスト除去剤は、アルコキシN-ヒドロキシアルキルアルカンアミドからなる。レジスト除去用組成物は、アルコキシN-ヒドロキシアルキルアルカンアミドと、双極子モーメントが3以上の極性物質、損傷防止剤またはアルカノールアミンから選択される1つ以上の化合物とを含んでいる。レジスト除去剤またはレジスト除去用組成物は、レジスト除去力に優れ、ポリマー及び有機金属性ポリマーを効率よく除去することができる。また、下地膜を損傷することがない。従って、従来のレジスト除去において必要であった前処理段階(100)、あるいは下地膜の損傷を防止するための後処理段階(130)が不要である。

請求項（抜粋）：

アルコキシN-ヒドロキシアルキルアルカンアミドからなることを特徴とするレジスト除去剤。

IPC (5件)：

G03F 7/42 ,  C11D 7/32 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/306 ,  C09D 9/00

FI (5件)：

G03F 7/42 ,  C11D 7/32 ,  C09D 9/00 ,  H01L 21/30 572 B ,  H01L 21/306 D