特許

J-GLOBAL ID：200903085584904160

X線分析装置

発明者： 清水 一明
出願人/特許権者： 理学電機工業株式会社
代理人 (1件)： 杉本 修司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-176848
公開番号（公開出願番号）：特開2000-009666
出願日： 1998年06月24日
公開日（公表日）： 2000年01月14日
要約：

【要約】【課題】 元素分析と、広い波長領域における反射率測定による構造分析とを1台で簡便に行えるX線分析装置を提供する。【解決手段】 試料1 またはターゲット材2 にX線3 を照射するX線管4 と、試料1 またはターゲット材2 が固定される第1試料台5 と、試料1 から発生する2次X線7 を分光する分光素子8 と、その分光素子8 と同位置に選択的に配置され、前記ターゲット材2 から発生する固有X線9 が入射されるように試料1 が固定される第2試料台10と、前記分光素子8 で分光された蛍光X線16の強度、または試料1 で反射された前記固有X線17の強度を測定する検出器18とを備える。

請求項（抜粋）：

試料またはターゲット材にX線を照射するX線管と、試料またはターゲット材が固定される第1試料台と、試料から発生する2次X線を分光する分光素子と、その分光素子と同位置に選択的に配置され、前記ターゲット材から発生する固有X線が入射されるように試料が固定される第2試料台と、前記分光素子で分光された蛍光X線の強度、または前記第2試料台に固定された試料で反射された前記固有X線の強度を測定する検出器とを備えたX線分析装置。

IPC (2件)：

G01N 23/223 ,  G01N 23/207

FI (2件)：

G01N 23/223 ,  G01N 23/207

Fターム (16件)：

2G001AA01 ,  2G001BA04 ,  2G001BA18 ,  2G001CA01 ,  2G001EA00 ,  2G001EA01 ,  2G001GA13 ,  2G001JA08 ,  2G001JA12 ,  2G001KA01 ,  2G001KA08 ,  2G001LA11 ,  2G001MA05 ,  2G001PA12 ,  2G001SA01 ,  2G001SA07