特許

J-GLOBAL ID：200903085590139964

スラグフューミングダストからのヒ素及びアンチモンの分離除去方法

発明者： 小林 宙 ,  今村 正樹
出願人/特許権者： 住友金属鉱山株式会社
代理人 (1件)： 河備 健二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-105403
公開番号（公開出願番号）：特開2004-307965
出願日： 2003年04月09日
公開日（公表日）： 2004年11月04日
要約：

【課題】溶錬工程へ繰返すに際して好適な、ヒ素及びアンチモン含有量が低い亜鉛と鉛を得ることができる、亜鉛、鉛、ヒ素、アンチモンその他の金属を含有するダストからヒ素及びアンチモンを分離除去する方法を提供する。【解決手段】亜鉛、鉛、ヒ素、アンチモンその他の金属を含有するスラグフューミングダストから、ヒ素とアンチモンを分離除去する方法であって、前記ダストを硫酸で浸出して、亜鉛、ヒ素及びアンチモンを含む浸出生成液と鉛を含む残渣とを形成する硫酸浸出工程、前記浸出生成液に硫化剤を添加して、ヒ素及びアンチモンを含む硫化殿物と亜鉛を含む精製液とを形成するヒ素及びアンチモンの分離工程、及び前記亜鉛を含む精製液から、亜鉛を分離回収する工程を含むことを特徴とするヒ素とアンチモンの分離除去方法などによって提供。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

亜鉛、鉛、ヒ素、アンチモンその他の金属を含有するスラグフューミングダストから、ヒ素及びアンチモンを分離除去する方法であって、 (1)前記ダストを硫酸で浸出して、亜鉛、ヒ素及びアンチモンを含む浸出生成液と鉛を含む残渣とを形成する硫酸浸出工程、 (2)前記浸出生成液に硫化剤を添加して、ヒ素及びアンチモンを含む硫化殿物と亜鉛を含む精製液とを形成するヒ素及びアンチモンの分離工程、及び (3)前記亜鉛を含む精製液から、亜鉛を分離回収する工程、を含むことを特徴とするヒ素及びアンチモンの分離除去方法。

IPC (9件)：

C22B30/02 ,  C01G28/00 ,  C01G30/00 ,  C22B3/04 ,  C22B3/44 ,  C22B7/02 ,  C22B13/00 ,  C22B19/00 ,  C22B30/04

FI (9件)：

C22B30/02 ,  C01G28/00 Z ,  C01G30/00 ,  C22B7/02 B ,  C22B30/04 ,  C22B19/22 ,  C22B13/04 ,  C22B3/00 A ,  C22B3/00 R

Fターム (13件)：

4G047AA02 ,  4G047AB02 ,  4G048AA07 ,  4G048AB02 ,  4G048AE02 ,  4K001AA03 ,  4K001AA20 ,  4K001AA21 ,  4K001AA30 ,  4K001BA14 ,  4K001DB03 ,  4K001DB23 ,  4K001DB24