塗布装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-193949
公開番号（公開出願番号）：特開2003-010755
出願日： 2001年06月27日
公開日（公表日）： 2003年01月14日
要約：

【要約】【課題】基板の塗布範囲をマスク装置で制限し塗布装置で塗布する際に、マスク装置で確実に塗布範囲を制限する装置を提供する。【解決手段】有機EL材料を塗布すべき溝11を基板S上に形成しておき、この溝11にノズル4a〜4cを沿わせるようにノズル4a〜4cを移動させて有機EL材料を溝11内に流し込んで塗布する。基板Sは周縁部マスク装置50でマスクされ、マスク板51、52は駆動手段53、54を制御部9が制御することにより、マスク板51、52を移動させる。マスク板51、52の移動は、ノズル4a〜4cの移動方向と逆方向に所定量シフトさせる。その結果、有機EL材料10a〜10cを基板Sの所望塗布範囲に確実に制限して塗布する。

請求項（抜粋）：

塗布液を基板上に塗布する塗布装置において、停止状態の基板上を横切る方向に吐出式ノズルが移動しながら、基板の上面に吐出式ノズルから塗布液を吐き出して塗布するノズル手段と、前記基板の周縁部に対して設けられ、前記ノズル手段から吐き出される塗布液から基板周縁部をマスクするマスク手段、前記マスク手段を前記ノズル手段の移動方向とは逆方向にシフトさせるシフト制御手段と、を具備することを特徴とすることを特徴とする塗布装置。

IPC (4件)：

B05C 5/00 101 , B05B 15/04 102 , B05C 11/10 , H01L 21/027

FI (4件)：

B05C 5/00 101 , B05B 15/04 102 , B05C 11/10 , H01L 21/30 564 Z

Fターム (18件)：

4D073AA01 , 4D073BB03 , 4D073DB04 , 4D073DB13 , 4D073DB39 , 4F041AA06 , 4F041AB01 , 4F041BA22 , 4F041BA38 , 4F042AA07 , 4F042AB00 , 4F042BA08 , 4F042CB02 , 4F042DG07 , 4F042DG17 , 4F042ED05 , 5F046JA02 , 5F046JA27

引用特許：

出願人引用 (3件)

膜形成方法及び膜形成装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-328800 出願人：東京エレクトロン株式会社
カラー表示PDPの蛍光体形成方法及びその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-304054 出願人：松下電器産業株式会社
特開平2-265666

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