特許
J-GLOBAL ID：200903085606286440
ポリイミド光導波路の作製方法
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-125765
公開番号（公開出願番号）：特開2000-321456
出願日： 1999年05月06日
公開日（公表日）： 2000年11月24日
要約：
【要約】【課題】 平滑なコアリッジ壁面をもつポリイミド光導波路の製造方法を提供する。【解決手段】 下部クラッドのポリイミドをウェットエッチングによりあるいは金型射出成形により溝付き下部クラッドを形成し、その溝の部分にディスペンサによりコアを作製するポリイミド光導波路の製造方法。下部クラッドのポリイミドをウェットエッチングし、その溝の部分にディスペンサによりコアを作製し、更に該ポリイミド上にポリイミドからなるクラッドを形成するポリイミド光導波路の製造方法。
請求項（抜粋）：
下部クラッドのポリイミドをウェットエッチングし、その溝の部分にディスペンサによりコアを作製することを特徴とするポリイミド光導波路の製造方法。
Fターム (7件)：
2H047KA04
, 2H047PA02
, 2H047PA21
, 2H047PA24
, 2H047PA28
, 2H047QA05
, 2H047TA00
