特許

J-GLOBAL ID：200903085607957798

渦抑制流れ制御装置

発明者： サンカラナラヤナン,ラマニ ,  ガスリー,ローデリック・アイ.・エル.
出願人/特許権者： アール.・ガスリー・リサーチ・アソシエーツ・インコーポレイテッド
代理人 (1件)： 薬師 稔 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-513606
公開番号（公開出願番号）：特表平8-502209
出願日： 1993年12月07日
公開日（公表日）： 1996年03月12日
要約：

【要約】そらせ板(28、46、58、88)と、液体を排出するノズル(22、34、54、84)を中心に放射状に配設されかつそらせ板をノズルから離隔するようになっている複数の仕切り(30、48、56、89)とを備えた流れ制御装置(20、32、52、82)。装置は、ドレン容器内の液体流を遮断する渦流ファンネルの形成により生ずる、冶金スラグのような上層相または酸化雰囲気の取り込みを実質上なくす特定の作用を行なう。

請求項（抜粋）：

垂直方向の軸線と入口(27、42)から出口(29、40、74、102)へ軸線方向に延びる排出口(26、38、70、98)とを有するノズル(22、34、54、84)を介して垂直方向へ排出される液体における回転流を抑制する流れ制御装置(20、32、52、8 2)において、 使用の際にノズル(22、34、54、84)の上方に配置されるそらせ板(28、46、58、88)と、 排出口(26、38、70、98)の長手方向の軸線を中心に配設されかつ排出口から軸線方向にそらせ板(28、46、58、88)を離隔するようにそらせ板を支持する放射状の仕切り(30、48、56、89)とを備え、仕切りはノズルを通る流れの横断面積と少なくとも同じ大きさの組み合わせ横断面積を有する放射状の流路を画成し、しかも仕切りは液体が流路が合流する場所においてノズルへ向けて放射状にかつ水平に流路に沿って流れ、次いで液体が流路から軸線方向にかつノズルを介して流れるように液体における回転力を遮断するようになっていることを特徴とする流れ制御装置(20、32、52、82)。

IPC (4件)：

B22D 41/50 540 ,  C21C 5/46 103 ,  C21C 7/00 ,  F27B 3/19

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭63-002539
  
• 特開昭63-072475
  
• 特開昭63-040668