特許

J-GLOBAL ID：200903085617911869

有害物質処理方法およびその装置

発明者： 浅野 昌道 ,  仙波 範明 ,  菅田 清 ,  西澤 丈裕
出願人/特許権者： 三菱重工業株式会社
代理人 (1件)： 光石 俊郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-314769
公開番号（公開出願番号）：特開2001-129572
出願日： 1999年11月05日
公開日（公表日）： 2001年05月15日
要約：

【要約】【課題】 原水中のオゾン濃度を高めてヒドロキシラジカルを効率よく発生させることができる有害物質処理方法およびその装置を提供する。【解決手段】 水2にオゾンガス3を溶解させてオゾン溶解水4を生成させる給水管11、オゾン発生器12、加圧ポンプ14、加圧溶解槽16等と、オゾン溶解水4を原水1に供給する配管17等と、原水1にUVを照射するUVランプ23とを備えると共に、原水1に浮上した不溶性粒子5を回収除去するスクレーパ19等を設け、水2にオゾンガス3を溶解させたオゾン溶解水4を原水1中に供給すると共に、UVの照射を行うことにより、ヒドロキシラジカルを発生させて原水1中に含まれている難分解性物質を分解処理するようにした。

請求項（抜粋）：

水にオゾンガスを溶解させたオゾン溶解水を原水中に供給すると共に、紫外線の照射または過酸化水素の添加のうちの少なくとも一方を行うことにより、ヒドロキシラジカルを発生させて当該原水に含まれている難分解性物質を分解処理することを特徴とする有害物質処理方法。

IPC (5件)：

C02F 1/78 ZAB ,  C01B 13/10 ,  C02F 1/32 ,  C02F 1/40 ,  C02F 1/72

FI (5件)：

C02F 1/78 ZAB ,  C01B 13/10 D ,  C02F 1/32 ,  C02F 1/40 C ,  C02F 1/72 Z

Fターム (34件)：

4D037AA11 ,  4D037AB11 ,  4D037AB14 ,  4D037AB16 ,  4D037BA04 ,  4D037BA07 ,  4D037BA18 ,  4D037BB09 ,  4D037CA11 ,  4D037CA12 ,  4D050AA12 ,  4D050AA13 ,  4D050AB07 ,  4D050AB13 ,  4D050AB15 ,  4D050AB19 ,  4D050BB02 ,  4D050BB09 ,  4D050BC06 ,  4D050BC07 ,  4D050BC09 ,  4D050BD02 ,  4D050BD04 ,  4D050BD06 ,  4D050BD08 ,  4D050CA04 ,  4D050CA07 ,  4D050CA20 ,  4D051AA00 ,  4D051AB03 ,  4D051CA02 ,  4D051DB03 ,  4G042CE01 ,  4G042CE04