特許
J-GLOBAL ID：200903085639796737
真空製膜装置及びそれにより製造された膜
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
泉名 謙治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-335602
公開番号（公開出願番号）：特開平7-188909
出願日： 1993年12月28日
公開日（公表日）： 1995年07月25日
要約：
【要約】【構成】プラズマ、イオン及び電子の群の中から選択される少なくとも1種を導入し得る付加装置の電極部分2が製膜性物質の付着を防止する手段を有する真空製膜装置。【効果】製膜性物質が電極部分2に付着するのを防止する手段を有しているので、プラズマ発生源1の電流及び電圧の安定性が良く、プラズマ等の空間的分布が良いので、安定して均質な膜を形成させることができる。
請求項（抜粋）：
プラズマ、イオン及び電子の群の中から選択される少なくとも1種を導入し得る付加装置を有する真空製膜装置において、前記付加装置の電極部分が製膜性物質の付着を防止する手段を有することを特徴とする真空製膜装置。
IPC (3件)：
C23C 14/32
, H01T 23/00
, H05H 1/46
