特許

J-GLOBAL ID：200903085647508546

研磨方法並びにその装置

発明者： 中村 精三 ,  松山 憲央
出願人/特許権者： 株式会社オハラ
代理人 (1件)： 柳野 隆生
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-117918
公開番号（公開出願番号）：特開平5-285822
出願日： 1992年04月09日
公開日（公表日）： 1993年11月02日
要約：

【要約】【目的】 歯科用、宝飾用あるいは一般用パーツ等の形状が複雑で小型のものであってもその表面全体を均一に研磨可能とし、研磨途上発生する熱影響や騒音発生を制限し、発生する磁場の磁力中心へ被研磨物を遊動自在に設定する。【構成】 容器収容部中に水等の案内液と被研磨物並びに研磨材を充填した研磨容器を収容し、変動する磁場を容器に与える。

請求項（抜粋）：

容器収容部中に案内液を収容し、該案内液中に被研磨物並びに磁性体研磨材を充填した研磨容器を遊動自在に設定するとともに、前記容器収容部中の研磨容器に対してN極、S極の磁極が交互に変動する磁場を付与してなることを特徴とする研磨方法。