特許
J-GLOBAL ID:200903085650675135

表面が微粉末で覆われた粉末を作製する方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-040999
公開番号(公開出願番号):特開平11-229115
出願日: 1998年02月09日
公開日(公表日): 1999年08月24日
要約:
【要約】【課題】 連続的にかつ安定して大量に表面が10μm以下の金属微粉末で覆われた粉末を作製する。【解決手段】 スパッタリングによって粉末表面に金属または合金を被覆する際、スパッタリングガスとしてArとO2および/またはN2の混合ガスを用い、その分圧比を1:0.01から1:1の範囲とする。
請求項(抜粋):
スパッタリングによって粉末表面に金属または合金を被覆する際、スパッタリングガスとしてArとO2および、またはN2の混合ガスを用い、その分圧比が1:0.01から1:1の範囲であり、平均粒径が0.1μm〜10mmの粉末の表面に平均粒径が10μm以下の微粉末を析出させることを特徴とする、微粉末で覆われた粉末を作製する方法。
IPC (4件):
C23C 14/00 ,  B22F 1/02 ,  C23C 14/14 ,  C23C 14/34
FI (4件):
C23C 14/00 A ,  B22F 1/02 A ,  C23C 14/14 D ,  C23C 14/34 M

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