特許
J-GLOBAL ID:200903085651239240

イオンビーム分析装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 明田 莞
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-173520
公開番号(公開出願番号):特開平9-021769
出願日: 1995年07月10日
公開日(公表日): 1997年01月21日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】 分析手法に対応したビームサイズ(形状)の選択が容易、かつ確実にしかも低コスト下で実現できるイオンビーム分析装置の提供。【解決手段】 試料台12上の試料13を被照射面がイオンビーム7に対して垂直面か、傾斜面かになるように保持できる角度可変手段15と、RBS,PIXE兼用の丸形又は正方形の開口19Aを持つ第1スリット9Aと、ERDA専用のビーム散乱方向に短辺である矩形の開口19Bを持つ第2スリット9Bと、両スリットをイオンビームライン上に交互に設置させるスリット保持手段14とを備え、両スリットを一つの板片に一体に形成し、開口をイオンビームライン上に交互に配置し得るようにスリット保持手段を板片に連結し、角度可変手段をスリット保持手段に対して連動関係に設け、第1、第2スリットをイオンビームライン上に配置するのに応じて被照射面をそれぞれ垂直面、傾斜面とする。
請求項(抜粋):
イオンビームライン上に設置されるスリットを通る高エネルギーイオンビームを試料に照射して該試料表面の元素分析等を行うイオンビーム分析装置において、試料を保持する試料台に、被照射面がイオンビームに対して垂直面にまたは、一方向に斜めに傾く傾斜面になるように試料を保持することができる角度可変手段が設けられ、前記スリットが、RBS,PIXE兼用の丸形若しくは正方形の開口を持つ第1スリットと、ERDA専用のビーム散乱方向に短辺である矩形の開口を持つ第2スリットとを備え、さらに、それら両スリットをイオンビームライン上に交互に設置させることができるスリット保持手段が設けられることを特徴とするイオンビーム分析装置。
IPC (4件):
G01N 23/225 ,  H01J 37/05 ,  H01J 37/20 ,  H01J 37/252
FI (4件):
G01N 23/225 ,  H01J 37/05 ,  H01J 37/20 A ,  H01J 37/252 B

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