特許

J-GLOBAL ID：200903085654200522

プラズマ処理装置

発明者： 大見 忠弘 ,  平山 昌樹 ,  須川 成利 ,  後藤 哲也
出願人/特許権者： 大見 忠弘 ,  東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 伊東 忠彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-086573
公開番号（公開出願番号）：特開2006-203246
出願日： 2006年03月27日
公開日（公表日）： 2006年08月03日
要約：

【課題】外壁により画成され、被処理基板を保持する保持台を備えた処理容器と、前記処理容器に結合された排気系と、前記処理容器中にプラズマガスを供給するプラズマガス供給部と、前記処理容器上に、前記被処理基板に対応して設けられたマイクロ波アンテナと、前記保持台上の被処理基板と前記プラズマガス供給部との間に、前記被処理基板に対面するように設けられた処理ガス供給部とよりなるプラズマ処理装置において、前記処理ガス供給部より処理ガスを、均一に供給する。【解決手段】前記処理ガス供給部に、前記処理容器内に形成されたプラズマを通過させる複数の第1の開口部と、処理ガス源に接続可能な処理ガス通路と、前記処理ガス通路に連通した複数の第2の開口部と設け、前記第2の開口部により、前記処理ガスを、前記被処理基板に対して斜めに放出する。【選択図】図17A

請求項（抜粋）：

外壁により画成され、被処理基板を保持する保持台を備えた処理容器と、 前記処理容器に結合された排気系と、 前記処理容器中にプラズマガスを供給するプラズマガス供給部と、 前記処理容器上に、前記被処理基板に対応して設けられたマイクロ波アンテナと、 前記保持台上の被処理基板と前記プラズマガス供給部との間に、前記被処理基板に対面するように設けられた処理ガス供給部とよりなり、 前記処理ガス供給部は、前記処理容器内に形成されたプラズマを通過させる複数の第1の開口部と、処理ガス源に接続可能な処理ガス通路と、前記処理ガス通路に連通した複数の第2の開口部とを備え、 前記第2の開口部は、前記処理ガスを、前記被処理基板に対して斜めに放出するプラズマ処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/31 ,  H01L 21/306 ,  C23C 16/455 ,  H05H 1/46

FI (4件)：

H01L21/31 C ,  H01L21/302 101B ,  C23C16/455 ,  H05H1/46 B

Fターム (16件)：

4K030EA03 ,  4K030FA01 ,  4K030KA45 ,  4K030LA15 ,  5F004AA01 ,  5F004BA04 ,  5F004BB18 ,  5F004BB28 ,  5F004BD04 ,  5F004DA00 ,  5F045AA08 ,  5F045BB02 ,  5F045DP03 ,  5F045DP04 ,  5F045DQ10 ,  5F045EF04

引用特許：

審査官引用 (1件)

• プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-050536   出願人：三菱電機株式会社