特許

J-GLOBAL ID：200903085655470426

フォトレジスト剥離剤組成物およびその使用方法

発明者： 小谷 武 ,  西嶋 佳孝 ,  宝山 隆博
出願人/特許権者： ナガセ化成工業株式会社
代理人 (1件)： 南條 博道
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-259854
公開番号（公開出願番号）：特開2002-072505
出願日： 2000年08月29日
公開日（公表日）： 2002年03月12日
要約：

【要約】【課題】 取り扱いが容易で、レジストを良好に除去でき、Cu膜に対し優れた防食効果を持つ剥離剤組成物を提供すること。【解決手段】 一級、二級もしくは三級のアルキルアミンまたは一級、二級もしくは三級のアルカノールアミンと、水と、2-メルカプトベンゾイミダゾールを主成分とする、フォトレジスト剥離剤組成物。必要に応じて、さらに極性有機溶剤を含有してもよい。

請求項（抜粋）：

一級、二級もしくは三級のアルキルアミンまたは一級、二級もしくは三級のアルカノールアミンと、水と、2-メルカプトベンゾイミダゾールを主成分とする、フォトレジスト剥離剤組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/42 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/308

FI (3件)：

G03F 7/42 ,  H01L 21/308 E ,  H01L 21/30 572 B

Fターム (9件)：

2H096AA25 ,  2H096HA23 ,  2H096LA03 ,  5F043AA40 ,  5F043BB30 ,  5F043DD13 ,  5F043DD30 ,  5F043GG10 ,  5F046MA02