特許
J-GLOBAL ID：200903085656918021
ニッケル系めっき液中へのニッケル原料の供給方法およびその装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小林 英一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-062316
公開番号（公開出願番号）：特開平7-268696
出願日： 1994年03月31日
公開日（公表日）： 1995年10月17日
要約：
【要約】【目的】 金属ニッケル粒を直接めっき液中に補給し、溶解させる。【構成】 溶解槽内のめっき液の温度を75〜100 °Cの範囲に制御するとともに、溶解槽内のめっき液の硫酸濃度が10%を越えない範囲で溶解槽のめっき液内に硫酸水溶液を添加し、粒径が 0.3mm以下である粒状あるいは粉状の金属ニッケルをこの溶解槽内に直接投入して溶解させる。
請求項（抜粋）：
溶解槽内のめっき液の温度を75〜100 °Cの範囲に制御し、粒径が 0.3mm以下である粒状あるいは粉状の金属ニッケルをこの溶解槽内のめっき液内に直接投入して溶解させることを特徴とするニッケル系めっき液中へのニッケル原料の供給方法。
IPC (2件)：
引用特許：
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