特許

J-GLOBAL ID：200903085658496299

撮像装置

発明者： 落合 透
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (2件)： 古谷 史旺 ,  森 俊秀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-294318
公開番号（公開出願番号）：特開2009-124309
出願日： 2007年11月13日
公開日（公表日）： 2009年06月04日
要約：

【課題】 ストロボ光の照射によって生じるあおりの影響を低減した画像を取得する。【解決手段】 本発光と、該本発光に先立って行われる予備発光とを行う発光手段と、本発光及び予備発光が行われたときの画像を取得する撮像手段と、予備発光時の画像から顔領域を検出する顔検出手段と、顔検出手段によって検出された顔領域の陰影情報を取得する情報取得手段と、情報取得手段によって求められた顔領域の陰影情報に基づいて、本発光時の発光量、又は本発光時に撮像される画像に対する補正量の少なくともいずれか一方のパラメータを決定するパラメータ決定手段と、を備えたことを特徴とする。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

本発光と、該本発光に先立って行われる予備発光とを行う発光手段と、 前記本発光及び前記予備発光が行われたときの画像を取得する撮像手段と、 前記予備発光時の画像から顔領域を検出する顔検出手段と、 前記顔検出手段によって検出された顔領域の陰影情報を取得する情報取得手段と、 前記情報取得手段によって求められた顔領域の陰影情報に基づいて、前記本発光時の発光量、又は本発光時に撮像される画像に対する補正量の少なくともいずれか一方のパラメータを決定するパラメータ決定手段と、 を備えたことを特徴とする撮像装置。

IPC (2件)：

H04N 5/238 ,  G03B 15/05

FI (2件)：

H04N5/238 Z ,  G03B15/05

Fターム (11件)：

2H053AB03 ,  2H053AD23 ,  2H053DA03 ,  5C122DA04 ,  5C122EA12 ,  5C122FG05 ,  5C122FH10 ,  5C122FH14 ,  5C122GG16 ,  5C122GG22 ,  5C122HB01

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 撮像装置及びその制御方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-422951   出願人：キヤノン株式会社
• 特許第3578321号公報
  
• 画像認識装置、陰影除去装置、陰影除去方法及び記録媒体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-197525   出願人：株式会社エヌ・ティ・ティ・データ