特許

J-GLOBAL ID：200903085670773214

化学メッキ廃液の処理方法及び処理装置

発明者： 上市 一吉 ,  伊藤 僖候
出願人/特許権者： 上市 一吉
代理人 (1件)： 河野 茂夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-249791
公開番号（公開出願番号）：特開平8-108183
出願日： 1994年10月14日
公開日（公表日）： 1996年04月30日
要約：

【要約】【目的】 COD濃度が所定の低レベルに達しても、時間当たりのCOD処理効率があまり低下せず、より短い時間で廃液を処理できる化学メッキ廃液の処理方法及び処理装置を提供すること。【構成】 処理方法は、メッキ廃液を処理する過程において、メッキ廃液を電解酸化処理しつつオゾン処理する工程を含むことを特徴とする。また、処理装置は、内部に電極が設置された処理槽と、この処理槽の外部へ設置されたオゾン発生器と、このオゾン発生器で生成されるオゾンを前記処理槽へ供給するポンプとを備えたことを特徴とする。

請求項（抜粋）：

メッキ廃液を処理する過程において、メッキ廃液を電解酸化処理しつつオゾン処理する工程を含むことを特徴とする、化学メッキ廃液の処理方法。

IPC (5件)：

C02F 1/461 ,  C02F 1/32 ZAB ,  C02F 1/46 ZAB ,  C02F 1/52 ZAB ,  C02F 1/78 ZAB