特許
J-GLOBAL ID：200903085674301864
漏れを検出する方法及び漏れ箇所の検出方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
宇井 正一 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-280893
公開番号（公開出願番号）：特開平6-281528
出願日： 1993年11月10日
公開日（公表日）： 1994年10月07日
要約：
【要約】【目的】 産業プロセスにおける温度調節用流体及びプロセス流体間の漏れを検出するための方法、並びにその漏れの場所を突き止めるための方法を提供する。【構成】 A流体とB流体とを含むプロセスであり、これらの流体のうちの一方が間接接触の方法により他方から熱を受取りあるいはそれへ熱を移動させ、これらの流体の両方でなく一方が産業プロセス流体である産業プロセスにおいて、A流体中にB流体の正規の成分でない少なくとも1種の化学トレーサー種を保持し、少なくとも一方の流体を少なくとも一つの箇所で少なくとも一つの分析にかける。この分析は、分析にかけられる流体がB流体である場合には少なくとも化学トレーサー種の存在を検出し、分析にかけられる流体がA流体である場合には少なくとも当該化学トレーサー種の濃度を測定するものである。
請求項（抜粋）：
プロセス流体と温度調節流体とを含むプロセスであり、この温度調節流体が間接接触の方法によりプロセス流体から熱を受取りあるいはプロセス流体へ熱を移動させる産業プロセスにおいて、プロセス流体から温度調節流体への漏れを検出するための方法であって、プロセス流体中に温度調節流体の正規の成分ではない少なくとも1種の化学トレーサー種を保持し、プロセス流体と温度調節流体のうちの少なくとも一方を少なくとも一つの箇所で少なくとも一つの分析にかけることを含み、そしてこの分析は、当該分析にかけられる流体が温度調節流体である場合には少なくとも当該化学トレーサー種の存在を検出するものであり、また当該分析にかけられる流体がプロセス流体である場合には少なくとも当該化学トレーサー種の濃度を測定するものである、漏れの検出方法。
IPC (2件)：
引用特許：
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