特許

J-GLOBAL ID：200903085679416120

真空処理装置

発明者： ムリス,フェリクス
出願人/特許権者： ユナキス・バルツェルス・アクチェンゲゼルシャフト
代理人 (1件)： 深見 久郎 (外5名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-526944
公開番号（公開出願番号）：特表2002-500087
出願日： 1998年12月22日
公開日（公表日）： 2002年01月08日
要約：

【要約】装置基準電位(φ0)から少なくとも|±12|Vの偏差がある電位(φ9)におかれ、センサおよび/または操作部(11)が配置される部材(9)がその内部に設けられ、さらに前記センサおよび/または操作部と接続する電子機器ユニット(13)を備える、真空処理室(1)において、電子機器ユニット(13)が、基準電位として前記部材(9)の電位(φ9)で操作されることによって、ユニット(13)における信号処理が大幅に簡略化される。

請求項（抜粋）：

少なくとも一つの真空処理室(1)を備える真空処理装置において、装置の一部材が装置基準電位(φ0)と接続されており、真空室(1)内には、装置基準電位(φ0)から少なくとも|±12|Vの偏差がある電位(φ9)におかれたさらなる部材(9)が設けられ、かつこのさらなる部材(9)に少なくとも一つのセンサおよび/または少なくとも一つの操作部(11;36,34)が配置され、さらに、入力側および/または出力側がセンサおよび/または操作部と接続される電子機器ユニット(13)を備える装置であって、電子機器ユニット(13)が、さらなる部材(9)の電位(φ9)である、さらなる基準電位で操作されることを特徴とする、装置。

IPC (3件)：

B01J 19/08 ,  H01J 37/32 ,  H05H 1/46

FI (3件)：

B01J 19/08 C ,  H01J 37/32 ,  H05H 1/46 M

Fターム (12件)：

4G075AA24 ,  4G075AA30 ,  4G075BC02 ,  4G075BC04 ,  4G075BC06 ,  4G075CA25 ,  4G075CA47 ,  4G075CA65 ,  4G075DA02 ,  4G075EB01 ,  4G075EB41 ,  4G075EC21