特許
J-GLOBAL ID：200903085705658561
現像方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小池 晃 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-266262
公開番号（公開出願番号）：特開平7-120934
出願日： 1993年10月25日
公開日（公表日）： 1995年05月12日
要約：
【要約】【目的】 ポジ型のレジスト材料を、プロセスを煩雑化させたり、装置を大型化することなく、線幅安定性よく現像できる現像方法を提供する。【構成】 選択露光がなされたポジ型の化学増幅系レジスト材料層3に対して、この化学増幅系レジスト材料層3に対する親和性を高めるための活性剤を含有する第1の現像液による処理を、表面の難溶化層3cが溶解するまで行い、その後、露光部3aの残余部分を活性剤を含有しない第2の現像液によって溶解する。なお、第1の現像液による処理後、第2の現像液による処理に先立って、第1の現像液を乾燥するとより好ましい。【効果】 いわゆるTトップが防止され、エッチング寸法変換差を抑制することができる。
請求項（抜粋）：
選択露光後の被現像処理体を現像液を用いて処理する現像方法において、前記被現像処理体を該被現像処理体に対する親和性を高めるための活性剤を含有する第1の現像液を用いて途中まで現像する工程と、前記被現像処理体の残余部を前記活性剤を含有しない第2の現像液を用いて現像する工程とを有することを特徴とする現像方法。
IPC (2件)：
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