真空処理システム

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：亀谷美明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-121861
公開番号（公開出願番号）：特開2000-315718
出願日： 1999年04月28日
公開日（公表日）： 2000年11月14日
要約：

【要約】【課題】必要に応じて真空処理装置を移設することの可能な真空処理システムを提供する。【解決手段】被処理体搬送系に対し複数の真空処理装置が配設される真空処理システム100は,真空処理装置110を設置するための複数の設置空間120と,真空処理装置を任意の設置空間に案内/位置決めするためのレール130と,各設置空間に対応して設けられており,真空処理装置がいずれの設置空間に設置されても真空処理装置が稼働しうるよう規格化された用力供給部140と,設置空間に設置された各真空処理装置に対し被処理体を搬送するAGV150とを備えたことを特徴とする。一度設置した真空処理装置を必要に応じて他の設置場所に移設したり,他の装置と交換したりすることが可能である。このため,配置換えによるシステムの効率化や装置の増設によるシステムの拡大を容易に図ることができる。

請求項（抜粋）：

被処理体搬送系に対し複数の真空処理装置が配設される真空処理システムにおいて:前記真空処理装置を設置するための複数の設置空間と;前記真空処理装置を任意の前記設置空間に案内/位置決めするための案内/位置決め手段と;前記各設置空間に対応して設けられており,前記真空処理装置がいずれの前記設置空間に設置されても前記真空処理装置が稼働しうるよう規格化された用力供給部と;を備えたことを特徴とする,真空処理システム。

Fターム (6件)：

5F031CA05 , 5F031GA43 , 5F031GA58 , 5F031MA09 , 5F031MA13 , 5F031NA05

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