特許

J-GLOBAL ID：200903085721107435

光学素子とその製造方法

発明者： 岡田 健 ,  西田 武人
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 西山 恵三 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-155759
公開番号（公開出願番号）：特開2003-344640
出願日： 2002年05月29日
公開日（公表日）： 2003年12月03日
要約：

【要約】【課題】 混色および白抜けの無い信頼性の高い光学素子をインクジェット方式を用いて簡単なプロセスで製造することが可能となる。【解決手段】 遮光性を有するパターンによって囲まれた領域に、インクジェット記録装置を用いてインク液滴を付与することにより着色部の形成を行うカラーフィルター基板の製造方法において、プラズマ生成部と該プラズマ生成部で生成された中性活性種を用いて、基板に所定の処理を施す処理部とが、該プラズマ生成部で生成されるプラズマが直接基板に曝されることのなく、且つ、反応ガスの下流側に配置されてなるプラズマ処理装置において、前記隔壁の撥水化あるいは支持基板表面を親水化処理がなされる光学素子の製造方法。

請求項（抜粋）：

支持基板上に複数の画素と隣接する画素間に位置する隔壁とを少なくとも有する光学素子の製造方法であって、支持基板上に樹脂組成物からなる隔壁を形成する工程と、プラズマ生成部と該プラズマ生成部で生成された中性活性種を用いて、基板に所定の処理を施す処理部とが、該プラズマ生成部で生成されるプラズマが直接基板に曝されることのなく、且つ、反応ガスの下流側に配置されてなるプラズマ処理装置において、所定の処理をなされるプラズマ処理工程と、インクジェット方式により隔壁に囲まれた領域にインクを付与して画素を形成する工程とを有することを特徴とする光学素子の製造方法。

IPC (3件)：

G02B 5/20 101 ,  B41J 2/01 ,  G02F 1/1333

FI (3件)：

G02B 5/20 101 ,  G02F 1/1333 ,  B41J 3/04 101 Z

Fターム (15件)：

2C056FB01 ,  2H048BA02 ,  2H048BA11 ,  2H048BA64 ,  2H048BB02 ,  2H048BB24 ,  2H048BB42 ,  2H089HA36 ,  2H089KA17 ,  2H089KA19 ,  2H089TA03 ,  2H089TA05 ,  2H089TA06 ,  2H089TA07 ,  2H089TA18