特許

J-GLOBAL ID：200903085722968213

清浄性に優れた極低炭素Siキルド鋼の製造方法

発明者： 松野 英寿 ,  村井 剛 ,  川嶋 一斗志 ,  山岡 祐一 ,  櫻井 栄司
出願人/特許権者： 日本鋼管株式会社
代理人 (1件)： 高野 茂
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-094133
公開番号（公開出願番号）：特開平11-293329
出願日： 1998年04月07日
公開日（公表日）： 1999年10月26日
要約：

【要約】【課題】 転炉とRH真空脱ガス装置とを用いて、酸化物が少なく、清浄性の優れた極低炭素Siキルド鋼を安定して製造する。【解決手段】 転炉で精錬した溶鋼3をRH真空脱ガス装置1にて脱炭した後、Si脱酸して製造する極低炭素Siキルド鋼の製造方法において、RH真空脱ガス装置での処理中に、CaOを主体とするフラックス5中のCaO純分重量(B)と処理する溶鋼重量(A)との関係が(1)式を満足する範囲として、フラックスを溶鋼中に添加する。0.001≦B/A≦0.01......(1)

請求項（抜粋）：

転炉で精錬した溶鋼をRH真空脱ガス装置にて脱炭した後、Si脱酸して製造する極低炭素Siキルド鋼の製造方法において、RH真空脱ガス装置での処理中に、CaOを主体とするフラックス中のCaO純分重量(B)と処理する溶鋼重量(A)との関係が(1)式を満足するようにして、前記フラックスを溶鋼中に添加することを特徴とする清浄性に優れた極低炭素Siキルド鋼の製造方法。0.001≦B/A≦0.01......(1)

IPC (5件)：

C21C 7/10 ,  C21C 7/04 ,  C21C 7/06 ,  C21C 7/068 ,  C21C 7/076

FI (5件)：

C21C 7/10 A ,  C21C 7/04 C ,  C21C 7/06 ,  C21C 7/068 ,  C21C 7/076 A