特許
J-GLOBAL ID：200903085749227185
プラズマ処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-004876
公開番号（公開出願番号）：特開平6-216074
出願日： 1993年01月14日
公開日（公表日）： 1994年08月05日
要約：
【要約】【目的】この発明はチャンバに導入されるガスを効率よくプラズマ化できるようにしたプラズマ処理装置を提供することにある。【構成】被処理物が設置されるチャンバ1と、このチャンバに設けられた複数の導入ノズル6と、上記チャンバに上記導入ノズルを介してガスを供給する供給源14と、上記各導入ノズルの外周に設けられこれらの導入ノズルを通過する上記ガスに高周波電力を印加してプラズマ化する高周波コイル7とを具備したことを特徴とする。
請求項（抜粋）：
被処理物が設置されるチャンバと、このチャンバに設けられた複数の導入ノズルと、上記チャンバに上記導入ノズルを介してガスを供給する供給手段と、上記各導入ノズルの外周に設けられこれらの導入ノズルを通過する上記ガスに高周波電力を印加してプラズマ化する高周波コイルとを具備したことを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/302
, H01L 21/31
, H05H 1/46
