特許

J-GLOBAL ID：200903085783112001

洗浄装置及び洗浄方法

発明者： 藤崎 達雄 ,  都築 幸司 ,  高田 健司 ,  竹山 祥史
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 福森 久夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-156545
公開番号（公開出願番号）：特開平8-071512
出願日： 1995年06月22日
公開日（公表日）： 1996年03月19日
要約：

【要約】【目的】 低コストで、かつ基板の汚れ具合に合わせた運用ができる。また、高粘着性の汚れ除去が可能な洗浄装置と洗浄方法を提供する。【構成】 本発明の洗浄装置は、被処理体を洗浄するための複数の洗浄段と、該洗浄段のそれぞれで使用された洗浄液を貯溜する貯溜部の複数と、隣接する前記洗浄段の1つの洗浄段に対応する貯溜部内の洗浄液と該他方の洗浄段に対応する貯溜部内の洗浄液と該1つの洗浄段に供給するための通路と、を有することを特徴とし、また本発明の洗浄方法は、前記1つの洗浄段を前段、他方の洗浄段を後段とし、前段での洗浄を後段より多い洗浄液の流量で行うことを特徴とする。

請求項（抜粋）：

被処理体を洗浄するための複数の洗浄段と、該洗浄段のそれぞれで使用された洗浄液を貯溜する貯溜部の複数と、隣接する前記洗浄段の1つの洗浄段に対応する貯溜部内の洗浄液と該他方の洗浄段に対応する貯溜部内の洗浄液と該1つの洗浄段に供給するための通路と、を有することを特徴とする洗浄装置。

IPC (3件)：

B08B 3/02 ,  H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304