特許
J-GLOBAL ID:200903085783427118
圧力の高い窒素ガスの製造方法および製造装置
発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-049374
公開番号(公開出願番号):特開2002-221155
出願日: 2001年01月22日
公開日(公表日): 2002年08月09日
要約:
【要約】【課題】 圧力の高い窒素ガスを作り出そうとすると、純度の高い窒素ガスを作り出すことが、なかなか出来なかった。【解決手段】 ピストン63を構成している増圧弁61に第一圧縮空気101を送り込むことで窒素ガス103を増圧する圧力の高い窒素ガスの製造方法において、第一圧縮空気101より高い圧力の窒素ガス103を増圧弁61に送り込み、その後に第一圧縮空気101を増圧弁61に送り込むようにした。
請求項(抜粋):
ピストン(63)を構成している増圧弁(61)に第一圧縮空気(101)を送り込むことで窒素ガス(103)を増圧する圧力の高い窒素ガスの製造方法において、前記第一圧縮空気(101)より高い圧力の前記窒素ガス(103)を前記増圧弁(61)に送り込み、その後に前記第一圧縮空気(101)を前記増圧弁(61)に送り込むことを特徴とする圧力の高い窒素ガスの製造方法。
IPC (5件):
F04B 37/12
, B01D 53/22
, C01B 13/02
, C01B 21/04
, F15B 3/00
FI (6件):
F04B 37/12
, B01D 53/22
, C01B 13/02 Z
, C01B 21/04 N
, F15B 3/00 E
, F15B 3/00 F
Fターム (29件):
3H076AA03
, 3H076AA13
, 3H076AA40
, 3H076BB31
, 3H076BB50
, 3H076CC26
, 3H076CC28
, 3H076CC31
, 3H076CC41
, 3H076CC81
, 3H076CC91
, 3H076CC99
, 3H086AA27
, 3H086AB04
, 3H086BA07
, 3H086BA12
, 3H086BA19
, 3H086BB02
, 3H086BB03
, 3H086BC11
, 4D006GA41
, 4D006HA01
, 4D006MA01
, 4D006MB04
, 4D006PA03
, 4D006PB17
, 4D006PB63
, 4G042BA30
, 4G042BB02
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