特許
J-GLOBAL ID:200903085790152000

プラズマディスプレイパネルの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 岩橋 文雄 ,  坂口 智康 ,  内藤 浩樹
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-305427
公開番号(公開出願番号):特開2004-139920
出願日: 2002年10月21日
公開日(公表日): 2004年05月13日
要約:
【課題】MgOを保護膜としたPDPを形成した時、MgOを形成し前面板を完成させた後、背面板と組み合わせてガスを封入するまでにMgOが大気に曝されてしまい、MgO表面にMg(OH)2やMgCO3などの化合物が析出し、MgOと比べて二次電子放出係数が低いため放電開始電圧を上昇させ、PDPの駆動マージンを狭めてしまう。また、放電開始電圧が高いため高耐圧のドライバICが必要となり、製造コストが高くなる。【解決手段】ガス放電空間を挟んで背面基板と前面基板とを対向配置し、少なくとも一方の基板には誘電体層に覆われた電極を形成し、誘電体層上には保護層として酸化マグネシウムを形成して背面基板と前面基板を組み立てた後、エージングを行って完成するプラズマディスプレイパネルにおいて前記酸化マグネシウムを大気に曝すことなく表面にフッ素をイオン注入する。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
電極及び誘電体層が配設された第1の基板の誘電体層の上に、酸化マグネシウム層を含む保護層を形成する第1の工程と、 前記保護層を大気に曝すことなく前記保護層の表面にフッ素をイオン注入する第2の工程と, 前記第1の基板と、少なくとも蛍光体層が配設された第2の基板とを、対向して配すると共に、前記第1の基板及び第2の基板の間に形成される放電空間にガス媒体を封入する第3の工程と, 前記電極に電圧を印加して放電を行うエージング工程を備えたことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
IPC (3件):
H01J9/02 ,  H01J9/44 ,  H01J11/02
FI (4件):
H01J9/02 F ,  H01J9/44 A ,  H01J11/02 B ,  H01J11/02 Z
Fターム (9件):
5C012AA09 ,  5C012VV02 ,  5C027AA05 ,  5C040FA01 ,  5C040FA04 ,  5C040GB03 ,  5C040GB14 ,  5C040GE09 ,  5C040JA24

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