特許
J-GLOBAL ID：200903085791526788
弛緩発振の変調によりレーザパルスのプロフィールを制御する装置及び方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
中村 稔 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-013700
公開番号（公開出願番号）：特開平9-214041
出願日： 1997年01月28日
公開日（公表日）： 1997年08月15日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 複雑なフィードバック回路を必要とせずに大電力ソリッドステートレーザにより放射されるパルスの形状及びタイミングを制御する方法及び装置を提供する。【解決手段】 レーザにより放射される弛緩パルスの巾及びピーク強度は、レーザ空洞に設置された音響-光学変調器14の使用により制御され、この変調器に付与される高周波(RF)制御信号の周波数に弛緩パルスがロックされる。レーザからパルスを放射する数及び平均率は、レーザ空洞に設置されたソリッドステート増幅器18のポンピングに使用されるダイオード20のデューティサイクルを変えることにより独立して制御される。短いポンプパルスを選択するか、或いは多数の弛緩パルスを付与するように長いポンプパルスを選択することができる。弛緩パルスのピーク強度が比較的均一であるから、変調器のフィードバック制御は不要である。
請求項（抜粋）：
材料処理用途に適した大電力のソリッドステートレーザにおいて、2つの反射器により画成されたレーザ空洞と、上記レーザ空洞に配置された少なくとも1つのソリッドステート増幅器と、ポンプマクロパルスの間に選択されたデューティサイクルに基づいてレーザをポンピングするために上記少なくとも1つの増幅器の付近に配置されたダイオードの少なくとも1つのアレーと、上記レーザ空洞に配置された音響-光学(AO)変調器と、高周波(RF)で動作し、上記AO変調器に接続されて、各ポンプマクロパルスの間に一定パルス巾及び高さの一連のレーザ出力パルスを発生するための信号源と、予め選択された巾及び周波数の一連のマクロパルスにおいてポンプダイオードをオン及びオフに切り換えるための制御回路とを備え、上記ポンプマクロパルスの巾及び周波数は、上記変調器のフィードバック制御を必要とせずに、レーザから放射されるパルスの数及び全エネルギーを決定することを特徴とする大電力のソリッドステートレーザ。
IPC (2件)：
FI (2件)：
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