特許

J-GLOBAL ID：200903085807793072

エレクトロクロミック材料、及びその製造方法、並びにそれを用いたエレクトロクロミック表示素子

発明者： 小野 好之 ,  山崎 芳文 ,  今井 彰
出願人/特許権者： 富士ゼロックス株式会社
代理人 (1件)： 中島 淳 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-253079
公開番号（公開出願番号）：特開2000-089257
出願日： 1998年09月07日
公開日（公表日）： 2000年03月31日
要約：

【要約】【課題】 コントラストが大きく応答の速い、且つ素子化のための加工性に優れたエレクトロクロミック材料を提供することにある。【解決手段】 微細孔を有する金属酸化物層の少なくとも1層を有するエレクトロクロミック材料であって、該微細孔の孔径度数分布が複数のピークを有することを特徴とするエレクトロクロミック材料である。

請求項（抜粋）：

微細孔を有する金属酸化物層の少なくとも1層を有するエレクトロクロミック材料であって、該微細孔の孔径度数分布が複数のピークを有することを特徴とするエレクトロクロミック材料。

IPC (2件)：

G02F 1/15 ,  C09K 9/02

FI (2件)：

G02F 1/15 ,  C09K 9/02 A

Fターム (7件)：

2K001AA02 ,  2K001BB20 ,  2K001CA08 ,  2K001CA19 ,  2K001CA20 ,  2K001CA26 ,  2K001DA04