特許
J-GLOBAL ID:200903085815430060
2-アルキル-2-アダマンタチル(メタ)アクリレート類の製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
永井 隆
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-328450
公開番号(公開出願番号):特開2005-089421
出願日: 2003年09月19日
公開日(公表日): 2005年04月07日
要約:
【課題】 KrFおよびArF、F2等のエキシマレーザ、X線、電子ビーム、EUV(極端紫外光)用各種レジスト原料や、高機能性ポリマー原料として注目を集めている高純度2-アルキル-2-アダマンチル(メタ)アクリレート類の製造方法を提供する。【解決手段】 粗2-アルキル-2-アダマンタチル(メタ)アクリレート類に、前記2-アルキル-2-アダマンタチル(メタ)アクリレート類よりも高沸点の化合物を蒸留助剤として添加して蒸留することにより高純度2-アルキル-2-アダマンタチル(メタ)アクリレート類を製造する。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
2-アダマンタノンまたはその誘導体を原料として、式(1)で示される高純度2-アルキル-2-アダマンタチル(メタ)アクリレート類を製造する方法において、粗2-アルキル-2-アダマンタチル(メタ)アクリレート類に、前記2-アルキル-2-アダマンタチル(メタ)アクリレート類よりも高沸点の化合物を蒸留助剤として添加して蒸留することを特徴とする高純度2-アルキル-2-アダマンタチル(メタ)アクリレート類を製造する方法。
IPC (4件):
C07C67/54
, C07C67/03
, C07C69/013
, C07C69/54
FI (4件):
C07C67/54
, C07C67/03
, C07C69/013 C
, C07C69/54 B
Fターム (4件):
4H006AA02
, 4H006AC48
, 4H006AD11
, 4H006AD41
引用特許:
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