特許
J-GLOBAL ID:200903085821395187
ホログラム調光素子およびその製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
佐藤 正美
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-037810
公開番号(公開出願番号):特開平11-231135
出願日: 1998年02月19日
公開日(公表日): 1999年08月27日
要約:
【要約】【課題】 ホログラム調光素子において、反射スペクトル幅を広くすることができ、反射型ディスプレイとして明るい表示が得られ、十分な白さを実現できるようにする。【解決手段】 透明電極を形成した透明基板上に光硬化性の高分子材料を塗布し、その層の両側からレーザ光を照射して、硬化部と未硬化部とを交互に層状に形成する。未硬化の高分子材料を溶出させて、空孔1を形成し、空孔1内に光構造変化材料2を注入して、空孔1の内壁面に光構造変化材料2を吸着させる。次に、空孔1内に液晶を注入して、空孔1の内壁面を除いて光構造変化材料2を液晶で置換する。次に、偏光紫外線23を照射して、空孔1の内壁面に吸着された光構造変化材料2を構造変化させ、これにより空孔1内の液晶分子3を特定方向に配向させる。これによって、高分子リッチな部分である高分子層18aと液晶リッチな部分である液晶層19aとの間の屈折率差が大きくなる。
請求項(抜粋):
基板上に、高分子材料の硬化部分と未硬化部分とが交互に層状に形成され、その未硬化部分は、未硬化の高分子材料が溶出されて空孔が形成され、その空孔の内壁面に、構造変化した光構造変化材料が吸着され、その空孔内に、その光構造変化材料の構造変化によって特定方向に配向された液晶が注入されているホログラム調光素子。
IPC (2件):
G02B 5/32
, G02F 1/13 505
FI (2件):
G02B 5/32
, G02F 1/13 505
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