特許

J-GLOBAL ID：200903085824088285

単分散球状シリカの製造方法

発明者： 越智 康雄 ,  大原 和夫 ,  劉 天泉 ,  前川 正史
出願人/特許権者： 株式会社オハラ
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-263088
公開番号（公開出願番号）：特開平6-087608
出願日： 1992年09月04日
公開日（公表日）： 1994年03月29日
要約：

【要約】【目的】 平均粒径が0.1〜10μm、変動係数が15%以下の単分散球状シリカ粒子を容易に効率よく得る方法を提供する。【構成】 アルコキシシラン、アルカリ調整水および有機溶媒を、連続的に予備反応槽内に注加し混合して、アルコキシシランの加水分解物であるケイ酸を含む液とする予備処理工程と、上記加水分解物を含む液を、アルカリ性有機分散媒に球状シリカのシードを分散させた反応液が収容された主反応槽内に連続的に供給して、上記加水分解物の脱水縮合反応により生成した微細なシリカを上記シードの表面に付着させて粒子を成長させ大径化する主反応工程とを含む。

請求項（抜粋）：

?@アルコキシシラン、アルカリ調整水および有機溶媒を、連続的に予備反応槽内に注加し混合して、アルコキシシランの加水分解物であるケイ酸を含む液とする予備処理工程と、?A上記加水分解物を含む液を、アルカリ性有機分散媒に球状シリカのシードを分散させた反応液が収容された主反応槽内に連続的に供給して、上記加水分解物の脱水縮合反応により生成した微細なシリカを上記シードの表面に付着させて粒子を成長させ大径化する主反応工程とを含む単分散球状シリカの製造方法。