特許
J-GLOBAL ID：200903085837375836

感刺激性組成物、化合物及び該感刺激性組成物を用いたパターン形成方法

発明者：
児玉 邦彦

児玉 邦彦 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (5件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  濱田 百合子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-028944
公開番号（公開出願番号）：特開2005-055864
出願日： 2004年02月05日
公開日（公表日）： 2005年03月03日
要約：
【課題】高感度で、良好なプロファイルを示す感刺激性組成物、また、200nm以下、特にF2レーザー光(157nm)の露光波長において高感度で、良好なプロファイルを示す感光性組成物、更には、これらの組成物を提供すべく、外部からの刺激により酸又はラジカルを発生する新規な化合物(A)を提供する。【解決手段】外部からの刺激により酸又はラジカルを発生する下記の一般式(I)で表される特定構造の化合物(A)を含有する感刺激性組成物、及び特定構造の化合物(A)。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
外部からの刺激により酸又はラジカルを発生する下記一般式(I)で表される化合物を含有することを特徴とする感刺激性組成物。
IPC (2件)：
G03F7/004 ,  H01L21/027
FI (2件)：
G03F7/004 503A ,  H01L21/30 502R
Fターム (14件)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AB03 ,  2H025AB14 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC04 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (12件)
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引用文献：
審査官引用 (4件)
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