特許

J-GLOBAL ID：200903085839703075

光走査装置

発明者： 蜂須賀 正樹 ,  市川 順一 ,  生田 美枝子
出願人/特許権者： 富士ゼロックス株式会社
代理人 (1件)： 田中 隆秀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-019522
公開番号（公開出願番号）：特開平10-221617
出願日： 1997年01月31日
公開日（公表日）： 1998年08月21日
要約：

【要約】【課題】 2つの露光光学系の各レーザ光の被走査面上における副走査方向の像面湾曲、共役点湾曲、バウ(BOW)の大きさを均一にすること。【解決手段】 第1露光光学系Uk,Umおよび第2露光光学系Uy,Ucは、反射光が直接被走査面に入射する位置に配置され且つ前記回転多面鏡27および被走査面を共役な関係とするシリンドリカルミラー29,31を有し、前記シリンドリカルミラー29,31から被走査面までの距離が同じ値に設定される。前記シリンドリカルミラー29,31のレーザ光Lk,Ly,Lm,Lcを折り返す角度は同じ値に設定され、且つ1個の回転多面鏡27は2個の露光光学系で共有する。回転移動する像担持体16k〜16cの表面(被走査面)に垂直な法線の下流側および上流側のうちの同じ側からレーザ光Lk,Ly,Lm,Lcが被走査面に入射するように設定されている。

請求項（抜粋）：

下記の要件を備えたことを特徴とする光走査装置、(A01)水平方向に移動する被転写部材の移動方向に互いに離れて配置されるとともに前記被転写部材の表面に接触する被走査面を有し前記被走査面の前記被転写部材表面との接触部分が前記被転写部材と同一方向に回転移動する第1像担持体および第2像担持体、(A02)鉛直な回転軸を有する回転多面鏡に画像書込用のレーザビームを副走査方向斜めに入射させる光源光学系および前記回転多面鏡から反射したレーザビームを前記第1像担持体上に収束させて前記被走査面の移動方向である副走査方向に垂直な主走査方向に走査させる走査光学系を有し、前記第1像担持体上に静電潜像を書き込むダブルパス方式の第1露光光学系、(A03)鉛直な回転軸を有する回転多面鏡に画像書込用のレーザビームを副走査方向斜めに入射させる第2光源光学系および前記回転多面鏡から反射したレーザビームを前記第2像担持体上に収束させて前記被走査面の移動方向である副走査方向に垂直な主走査方向に走査させる走査光学系を有し、前記第2像担持体上に静電潜像を書き込むダブルパス方式の第2露光光学系、(A04)反射光が直接被走査面に入射する位置に配置され且つ前記回転多面鏡および被走査面を共役な関係とするシリンドリカルミラーを有する前記第1露光光学系および第2露光光学系、(A05)前記シリンドリカルミラーから被走査面までの距離が同じ値に設定されるとともに前記シリンドリカルミラーのレーザビームを折り返す角度が同じ値に設定され、且つ1個の回転多面鏡を共有し、前記共有する回転多面鏡の互いに反対側に配置されるとともに前記副走査方向の入射角度が同一に設定された前記第1露光光学系および第2露光光学系、(A06)前記回転移動する被走査面に垂直な法線の下流側および上流側のうちの同じ側からレーザビームが被走査面に入射するように設定された前記第1露光光学系および第2露光光学系。

IPC (3件)：

G02B 26/10 ,  B41J 2/44 ,  H04N 1/113

FI (3件)：

G02B 26/10 B ,  B41J 3/00 D ,  H04N 1/04 104 B