特許

J-GLOBAL ID：200903085857016506

水素製造用フィルタに用いる薄膜支持基板および水素製造用フィルタの製造方法

発明者： 前田 高徳 ,  八木 裕 ,  太田 善紀 ,  内田 泰弘
出願人/特許権者： 大日本印刷株式会社
代理人 (2件)： 米田 潤三 ,  皿田 秀夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-285738
公開番号（公開出願番号）：特開2004-121899
出願日： 2002年09月30日
公開日（公表日）： 2004年04月22日
要約：

【課題】燃料電池の改質器に使用して高純度の水素ガスを安定して製造できる水素製造用フィルタを可能とするための薄膜支持基板と、この薄膜支持基板を用いた水素製造用フィルタの製造方法を提供する。【解決手段】薄膜支持基板を、金属基板と、この金属基板の一方の面に形成された複数の柱状凸部と、柱状凸部非形成部位に金属基板を貫通するように形成された複数の貫通孔とを備え、柱状凸部形成面側に占める柱状凸部非形成部位の面積が20〜90%の範囲となるように構成し、このような薄膜支持基板を用いた水素製造用フィルタの製造方法では、膜形成工程にて、薄膜支持基板に対して選択エッチングが可能な金属基材の一方の面にめっきによりPd合金膜を形成し、拡散接合工程にて、薄膜支持基板の柱状凸部を形成した面に、上記のPd合金膜を柱状凸部の上端面と拡散接合させることにより金属基材を配設し、除去工程にて、金属基材を選択エッチングにより除去するようにした。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

水素製造用フィルタに用いる薄膜支持基板において、 金属基板と、該金属基板の一方の面に形成された複数の柱状凸部と、該柱状凸部の非形成部位に金属基板を貫通するように形成された複数の貫通孔とを備え、柱状凸部形成面側に占める柱状凸部非形成部位の面積が20〜90%の範囲であることを特徴とする薄膜支持基板。

IPC (4件)：

B01D69/10 ,  B01D71/02 ,  C01B3/56 ,  H01M8/06

FI (4件)：

B01D69/10 ,  B01D71/02 500 ,  C01B3/56 Z ,  H01M8/06 R

Fターム (24件)：

4D006GA41 ,  4D006JA02C ,  4D006JA03A ,  4D006JA03B ,  4D006MA09 ,  4D006MA22 ,  4D006MA40 ,  4D006MB04 ,  4D006MB16 ,  4D006MC01X ,  4D006MC02X ,  4D006NA33 ,  4D006NA50 ,  4D006NA62 ,  4D006PA01 ,  4D006PA02 ,  4D006PB66 ,  4D006PC80 ,  4G140FA02 ,  4G140FB09 ,  4G140FC01 ,  4G140FE01 ,  5H027AA02 ,  5H027BA16