特許
J-GLOBAL ID:200903085889049759

膜厚測定方法及び膜の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 北野 好人
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-142665
公開番号(公開出願番号):特開平9-210663
出願日: 1996年06月05日
公開日(公表日): 1997年08月12日
要約:
【要約】【課題】 X線反射率を用いた膜厚測定方法において、反射率曲線の干渉振動を、任意性がない方法により、且つ簡単な手続により抽出する方法を提供する。【解決手段】 膜からのX線反射率を計測し、X線反射率から干渉振動を抽出し、干渉振動をフーリエ変換することにより膜の膜厚を算出する膜厚測定方法において、膜の表面に凹凸がない場合の反射率の減衰を表す入射角の羃関数と、膜の表面凹凸の影響を表す指数関数との積よりなる項に、バックグラウンドを表す定数項を加えた解析式に、X線反射率をフィッティングさせることにより平均反射率を求め、X線反射率と平均反射率とを用いて干渉振動を抽出する。
請求項(抜粋):
膜からのX線反射率を計測し、前記計測X線反射率から干渉振動を抽出し、前記干渉振動をフーリエ変換することにより前記膜の膜厚を算出する膜厚測定方法において、前記膜の表面に凹凸がない場合の反射率の減衰を表す入射角の羃関数と、前記膜の表面凹凸の影響を表す指数関数との積よりなる項に、バックグラウンドを表す定数項を加えた解析式に、前記計測X線反射率をフィッティングすることにより平均反射率を求め、前記計測X線反射率と前記平均反射率とを用いて前記干渉振動を抽出することを特徴とする膜厚測定方法。
IPC (8件):
G01B 15/02 ,  B01J 19/00 ,  G01R 23/16 ,  H01L 21/203 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/302 ,  H01L 21/66 ,  H05K 3/00
FI (8件):
G01B 15/02 D ,  B01J 19/00 K ,  G01R 23/16 A ,  H01L 21/203 S ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/66 P ,  H05K 3/00 V ,  H01L 21/302 Z

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