特許
J-GLOBAL ID：200903085896421132
複数ビーム書込装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
日比谷 征彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-031355
公開番号（公開出願番号）：特開平9-230259
出願日： 1996年01月25日
公開日（公表日）： 1997年09月05日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 書き込み用レーザー光を使用してAPC調整精度を向上させることにより画像品質を高める。【解決手段】 複数の発光点10a,10bを有するレーザー光源11からのレーザー光を偏向器を介して複数ビーム走査を行って光書込みをする複数ビーム書込装置において、書込みのための同期検知とレーザー光源11の光量調整のための光量モニタとを1個の受光センサ18により行い、受光センサ18は走査レーザー光を受光しながら書込走査ライン毎に複数のレーザー光を順次にかつ個別に同期検知及び光量調整を行う。また、複数の発光点を有する半導体レーザー光源11とレーザー制御駆動回路と受光センサ18を1個の金属又は合成樹脂又はセラミックから成るパッケージ内に配置してユニット化し、ユニットを移動調整して固定する。
請求項（抜粋）：
複数の発光点を有するレーザー光源からのレーザー光を偏向器を介して複数ビーム走査を行って光書込みをする複数ビーム書込装置において、該書込みのための同期検知と前記レーザー光源の光量調整のための光量モニタとを1個の受光センサにより行い、該受光センサは走査レーザー光を受光しながら書込走査ライン毎に複数のレーザー光を順次にかつ個別に同期検知及び光量調整を行うことを特徴とする複数ビーム書込装置。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G02B 26/10 B
, G02B 26/10 Z
, B41J 3/00 D
