特許

J-GLOBAL ID：200903085898140866

チタン粉末製造における水素化処理方法

発明者： 高久 昇 ,  藤井 秀樹 ,  山宮 昌夫 ,  田村 道夫 ,  籠橋 亘 ,  深澤 英一 ,  村山 良治
出願人/特許権者： 新日本製鐵株式会社 ,  東邦チタニウム株式会社
代理人 (1件)： 田村 弘明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-266653
公開番号（公開出願番号）：特開平7-118710
出願日： 1993年10月25日
公開日（公表日）： 1995年05月09日
要約：

【要約】【目的】 水素化脱水素法によるチタン粉末の製造において、水素化処理できる原料チタン材の制限を緩和するとともに、切削コストを削減し、さらに水素化処理の生産性を向上する。【構成】 厚さ10mm以下の原料チタンを、嵩密度を0.6〜4.0g/cm3 の範囲に調整して処理容器に装入し、水素化処理を行う。より具体的には、嵩密度の低い原料チタンを圧縮して、また嵩密度の高い原料チタンの間に、嵩密度の低い原料チタンを装入して嵩密度を調整する。

請求項（抜粋）：

水素化脱水素法によりチタン粉末を製造する方法において、厚さ10mm以下の原料チタンを、嵩密度を0.6〜4.0g/cm3 の範囲に調整して処理容器に装入し、水素化処理を行うことを特徴とする、チタン粉末製造における水素化処理方法。