特許

J-GLOBAL ID：200903085902078445

日焼け止め化粧料

発明者： 山口 和弘 ,  小川 克基
出願人/特許権者： 株式会社資生堂
代理人 (1件)： 舘野 千惠子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-029725
公開番号（公開出願番号）：特開平10-212222
出願日： 1997年01月29日
公開日（公表日）： 1998年08月11日
要約：

【要約】【課題】 塗布時にべたつきや油っぽさがなく、かつ安定性が高く、紫外線防止効果の高い日焼け止め化粧料を提供する。【解決手段】 (イ) 平均短径が0.03〜0.06μm、平均長径が0.08〜0.12μmで、アスペクト比(長径/短径)が2〜4である紡錘状微粒子酸化チタンと、(ロ)特定のシリコーン系桂皮酸誘導体と、(ハ) シリコーン油とを配合する。

請求項（抜粋）：

次の成分(イ)〜(ハ)を必須成分として含有することを特徴とする日焼け止め化粧料。(イ) 平均短径が0.03〜0.06μm、平均長径が0.08〜0.12μmで、アスペクト比(長径/短径)が2〜4である紡錘状微粒子酸化チタン。(ロ) 一般式(1):【化1】(式中、R1は炭素数1〜4のアルキル基またはフェニル基またはトリメチルシロキシ基、R2は少なくとも2個の炭素原子を有する二価の炭化水素基(酸素原子Oを有するものを含む。)、Xはアルコキシ基、nは0〜3の整数、aは2または3の整数を表す。)で表される単位を少なくとも1個持つシロキサン類であって、前記シロキサン類中に存在しうる他の単位が、一般式O(4-m)/2SiR3m(式中、R3は炭素数1〜4のアルキル基またはフェニル基またはトリメチルシロキシ基、mは0〜3の整数を表す。)で表されるシリコーン系桂皮酸誘導体。(ハ) シリコーン油の1種または2種以上。