特許
J-GLOBAL ID:200903085911066557
ウエハ研磨装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
川澄 茂
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-161548
公開番号(公開出願番号):特開2002-355759
出願日: 2001年05月30日
公開日(公表日): 2002年12月10日
要約:
【要約】【課題】研磨布の寿命が長く、且つ1バッチ当たりの研磨できるウエハの枚数を増加したウエハ研磨装置を提供すること。【解決手段】研磨布に向けて設けられた噴射ノズルと、該噴射ノズルに研磨液を0.05〜0.5MPaの圧力で加圧しながら供給する研磨液供給機構と、前記噴射ノズルを待避位置及び作業位置に移動する噴射ノズル移動機構と、前記研磨布をドレッシングするブラシと、該ブラシを待避位置及び作業位置に移動するブラシ移動機構とを具備したことにある。
請求項(抜粋):
研磨布に向けて設けられた噴射ノズルと、該噴射ノズルに研磨液を加圧しながら供給する研磨液供給機構と、前記噴射ノズルを待避位置及び作業位置に移動する噴射ノズル移動機構と、前記研磨布をドレッシングするブラシと、該ブラシを待避位置及び作業位置に移動するブラシ移動機構とを具備して成ることを特徴とするウエハ研磨装置。
IPC (4件):
B24B 53/007
, B24B 37/00
, H01L 21/304 621
, H01L 21/304 622
FI (5件):
B24B 53/007
, B24B 37/00 A
, B24B 37/00 K
, H01L 21/304 621 D
, H01L 21/304 622 M
Fターム (10件):
3C047AA21
, 3C047AA34
, 3C047FF08
, 3C047GG07
, 3C058AA19
, 3C058AC04
, 3C058CB03
, 3C058CB06
, 3C058CB10
, 3C058DA17
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