特許

J-GLOBAL ID：200903085930045641

ナノ粒子の製造方法

発明者： 姜 閏 浩
出願人/特許権者： 三星電子株式会社
代理人 (5件)： 八田 幹雄 ,  奈良 泰男 ,  齋藤 悦子 ,  宇谷 勝幸 ,  藤井 敏史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-365296
公開番号（公開出願番号）：特開2005-177983
出願日： 2004年12月17日
公開日（公表日）： 2005年07月07日
要約：

【課題】 ナノ粒子を簡便でありつつ大量に生産できるナノ粒子の製造方法を提供する。【解決手段】 気相法によって10nmないし1,000nmのエアゾール粒子を製造し、そのエアゾール粒子にレーザービームを加えてアブレーションさせることによってナノ粒子を製造する方法である。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

気相法によって、10nmないし1,000nmのエアゾール粒子を製造し、前記エアゾール粒子にレーザービームを加えてアブレーションさせることによってナノ粒子を製造する方法。

IPC (4件)：

B82B3/00 ,  B01J19/00 ,  C23C14/00 ,  C23C14/28

FI (4件)：

B82B3/00 ,  B01J19/00 N ,  C23C14/00 A ,  C23C14/28

Fターム (14件)：

4G075AA27 ,  4G075AA62 ,  4G075BB08 ,  4G075BC02 ,  4G075CA02 ,  4G075CA36 ,  4G075DA01 ,  4G075DA18 ,  4K029BA35 ,  4K029CA01 ,  4K029DB02 ,  4K029DB10 ,  4K029DB15 ,  4K029DB20