特許
J-GLOBAL ID:200903085938868299

投影露光装置と投影露光方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 井桁 貞一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-018764
公開番号(公開出願番号):特開平7-230944
出願日: 1994年02月16日
公開日(公表日): 1995年08月29日
要約:
【要約】【目的】 投影露光装置と投影露光方法に関し、解像度の向上を目的とする。【構成】 反射鏡13,14,15,16 により、基準面に対し平行な方向に反射する光路30と垂直な方向に反射する光路31とを一対にして光学系を形成してフォトマスクを照射する照射光のs偏光成分とp偏光成分の強さを等しくしたことを特徴として投影露光方法を構成する。
請求項(抜粋):
波長選択フィルタにより波長を選択した特定波長の平行光を複数の反射鏡によりフォトマスクに導き、縮小投影露光を行なう投影露光装置において、前記反射鏡(13,14,15,16)により、基準面に対し平行な方向に反射する光路(30)と垂直な方向に反射する光路(31) とを一対にして光学系が形成してあることを特徴とする投影露光装置。
IPC (4件):
H01L 21/027 ,  G03B 27/54 ,  G03B 27/73 ,  G03F 7/20 521

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