特許

J-GLOBAL ID：200903085942664886

露光条件決定システム

発明者： 中江 彰宏
出願人/特許権者： 株式会社ルネサステクノロジ
代理人 (3件)： 吉田 茂明 ,  吉竹 英俊 ,  有田 貴弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-203512
公開番号（公開出願番号）：特開2004-047755
出願日： 2002年07月12日
公開日（公表日）： 2004年02月12日
要約：

【課題】煩雑な露光条件の確認作業を必要とせず、露光機毎の個体差に応じた露光条件を得る。【解決手段】露光条件決定システム100が有するデータベース10には、過去に行った露光工程に関する情報が蓄積されており、マスク情報11、露光機情報12、レジストプロセス情報13、過去の露光条件情報14が含まれている。露光条件決定部15は、データベース10から抽出した各種情報並びに新規マスク情報20に基づき、露光条件決定プログラムにより新規マスクに適した露光条件を決定し、その結果である新規マスクの露光条件21を出力する。シミュレーション部16は、データベース10から抽出した各種情報や新規マスク情報20に基づいた光学シミュレーションや現像シミュレーションを行う。シミュレーション部16によるシミュレーション結果は、露光条件決定部15において新規マスクの露光条件21の決定の際に用いられる。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

過去の露光に関する第1の情報を蓄積したデータベースと、 新規に作成されたマスクを用いる露光に関する第2の情報および前記データベースに蓄積された前記第1の情報に基づき、前記新規に作成されたマスクに適した露光条件を決定する露光条件決定部とを備える ことを特徴とする露光条件決定システム。

IPC (2件)：

H01L21/027 ,  G03F7/20

FI (3件)：

H01L21/30 502G ,  G03F7/20 521 ,  H01L21/30 516Z

Fターム (10件)：

5F046AA28 ,  5F046BA03 ,  5F046CB17 ,  5F046DA02 ,  5F046DA12 ,  5F046DA14 ,  5F046DA29 ,  5F046DD03 ,  5F046DD04 ,  5F046DD06