特許
J-GLOBAL ID：200903085959584126
レチクル・マスク表面の異物の比較検査方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井桁 貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-217079
公開番号（公開出願番号）：特開平6-067407
出願日： 1992年08月17日
公開日（公表日）： 1994年03月11日
要約：
【要約】【目的】 レチクル・マスクの表面検査方法の改良に関し、レチクル・マスク表面の異物の検査結果により、適切な洗浄方法を見出すことが可能なレチクル・マスク表面の異物の比較検査方法の提供を目的とする。【構成】 レチクル・マスク表面の異物の第1回目の検査結果の異物の位置を記憶する工程と、再洗浄後のレチクル・マスク表面の異物の第2回目の検査結果の異物の位置を記憶する工程と、この第1回目の異物の位置とこの第2回目の異物の位置とを比較する工程とを含むように構成する。
請求項（抜粋）：
レチクル・マスク表面の異物の第1回目の検査結果の異物の位置を記憶する工程と、再洗浄後のレチクル・マスク表面の異物の第2回目の検査結果の異物の位置を記憶する工程と、前記第1回目の異物の位置と前記第2回目の異物の位置とを比較する工程と、を含むことを特徴とするレチクル・マスク表面の異物の比較検査方法。
IPC (2件)：
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