特許

J-GLOBAL ID：200903085964727261

排水への滅菌剤注入量の自動制御方法とその装置

発明者： 小川 和彦
出願人/特許権者： 川崎重工業株式会社
代理人 (2件)： 鳥巣 実 ,  中嶋 慎一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-016026
公開番号（公開出願番号）：特開2004-223448
出願日： 2003年01月24日
公開日（公表日）： 2004年08月12日
要約：

【課題】ごみ焼却場などの排水処理設備において生じる排水を再利用水として適用可能な処理水になるように滅菌する際に、次亜塩素酸ソーダ等の塩素系滅菌剤の注入量を自動制御する装置を提供する。【解決手段】排水を中和処理した後にろ過した処理水を貯留する処理水槽2に、塩素系滅菌剤を溶解した滅菌剤溶液タンク7から滅菌剤溶液xの注入管5を接続し、注入管5に注入ポンプ6を介設し、処理水zの酸化還元電位差を測定する酸化還元電位差計9を処理水槽2に配備し、酸化還元電位差計9をコントローラ12を介して注入ポンプ6に接続し、酸化還元電位差計9により測定される酸化還元電位差が600mV〜800mVになるようにコントローラ12にて滅菌剤溶液の注入量を制御する。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

排水処理設備で生じる排水を処理して再利用したり放流したりするために次亜塩素酸ソーダなどの塩素系滅菌剤の注入量を自動制御する方法において、 前記排水又はろ過や中和などの処理を施したその処理水に前記塩素系滅菌剤を注入する際に、酸化還元電位差が600mV〜800mVになるように注入量を制御すること を特徴とする滅菌剤注入量の自動制御方法。

IPC (2件)：

C02F1/50 ,  C02F1/76

FI (8件)：

C02F1/50 510A ,  C02F1/50 520P ,  C02F1/50 531M ,  C02F1/50 531P ,  C02F1/50 540B ,  C02F1/50 550C ,  C02F1/50 550L ,  C02F1/76 A

Fターム (6件)：

4D050AA12 ,  4D050AB06 ,  4D050BB04 ,  4D050BB06 ,  4D050BD03 ,  4D050BD08

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭57-187090
  
• 特開平4-172243